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アセット情報システム

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共同利用機器

小型真空蒸着装置

型番等:サンバックED1250R
設置場所: 岩手県工業技術センター 地図を別タブで開く

概要

基板上に金属や酸化物の薄膜を堆積させる装置

仕様・特色

1.本体
排気系:ターボ分子ポンプ(300L/s)油回転ポンプ(100L/min.)
抵抗加熱源:2基(0.2kVA)
2.試料部
試料温度:室温~450℃
3.設置場所:先端研
真空槽:内径φ230×H240SUSチャンバー
最高到達真空度:3.0E-3Pa
電子ビーム加熱源:1基(3kW)
試料サイズ:最大φ2インチ
試料回転機構付き

利用情報

料金
1300円/時間
貸出条件1
成膜材料の費用を別途加算

その他機器等の情報

機器種別:設計・加工機器

設置場所住所、管理部署・担当

設置場所: 岩手県盛岡市北飯岡2-4-25 地図を別タブで開く
管理部署:電子情報システム部 目黒和幸
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